Det nederlandske selskapet Levitech, som er en spin-off av ASM, produserer maskiner for halvlederindustrien. For å oppnå de mindre strukturene og den større ensartetheten i halvledere som markedet krever, må maskinprodusenten ta i bruk nye metoder for varmeoverføring. Dette krever raskere temperaturkorrigering og fremfor alt mer presis regulering. Levitech var derfor på utkikk etter andre måter å styre de termiske prosessene i levittmaskinen sin på. I JUMO fant selskapet fra Almere i Nederland den rette partneren hvor løsningen kunne implementeres.
Reaktoren for waferproduksjon består av to grafittskiver som varmes opp til riktig prosesstemperatur. For å oppnå optimale resultater må waferne ha bestemte egenskaper. Under denne prosessen brukes gass for å få waferen til å flyte på begge platene uten å berøre dem. For å oppnå den nødvendige temperaturen på 1 200 grader Celsius brukes spesielle Kanthal®-varmeelementer.
Målet er å bruke innovative metoder for varmeoverføring som gjør det mulig å varme opp og kjøle ned platen svært raskt. Begge sider av platen har en jevn åpning på 0,15 mm, noe som sikrer ekstremt effektiv varmeledningsevne. Skiven varmes opp til grafittplatenes temperatur i løpet av sekunder. Oppvarmingen styres med et spesifikt termisk styresystem.
Levitor maskin för halvledarproduktion från Levitech
Värmekontrollsystemet är där tyristoren Power Controller från JUMO kommer till användning. JUMO TYA 201 kontrollerar den önskade strömmen och spänningen hos Kanthal®-värmeelementet i varje temperaturfas och Therbury säkerställer exakt temperaturprogression under processen. Detta system gör det möjligt för skivan att produceras vid optimal temperatur som är densamma varje gång.
Skivan i Levitech från Levitor
Skivan i den termiska processen
Tack vare egenskaperna hos JUMO TYA 201-tyristorn kan kravet på mer exakt kontroll och snabbare temperaturkorrigering uppfyllas. Som ett resultat kan de innovativa metoderna för värmeöverföring nu tillämpas i halvledarproduktion. Så här uppfyller Levitech marknadens krav och ökar genomströmningshastigheten samtidigt.
